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SHINKUU日本真空设备 溅射设备通用型 该装置用于在电子显微镜样品上涂覆贵金属薄膜并进行导电处理。 它易于操作，无需复杂的操作程序，并配备了一个 4 英寸的目标，甚至可以在大样品上涂覆。 查看详情
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SHINKUU真空设备 金属面涂金属导电膜 该装置用于在电子显微镜样品上涂上一层薄金属膜并进行导电处理。 它具有不需要复杂操作程序的可操作性。 钨主要用作靶材，还有许多其他特殊金属可以涂覆。 该电极采用风冷磁控管方法，可在低电压下涂覆特殊金属。 （这是因为气体中所含的电子会移动磁控管，大大提高了电离效率。 它有助于显著减少样品损坏。 查看详情
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SHINKUU日本真空设备 锇涂层装置 用于SEM和TEM的锇涂层设备。 由于粒径细小且周转性好，因此适用于高倍率观察应用和形状复杂的样品。 超薄的Os导电涂层还用于EBSD、俄歇和X射线分析。 查看详情
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SHINKUU日本真空设备 锇涂层装置 该装置是一种用于电子显微镜观察的锇涂层装置。 使用空心阴极样品架进行低压放电涂层，因此对样品几乎没有损坏。 由于在空心阴极中产生均匀的高密度等离子体，因此无论样品的高度或材料如何，在放置在圆柱体中的样品表面都会形成厚度均匀的Os膜。 由于只有必要量的锇气体被注入空心阴极，因此消耗量很低，未反应的气体被吸附并用活性炭捕集器去除，以抑制有害气体释放到大气中。 查看详情
